Лазер технологический со21

Рейтинг лучших лазеров для эпиляции по удалению волос


Рейтинг лучших лазеров для эпиляции по удалению волос

На выходе получается — экологический продукт, без химикатов. Таким источником питания для лазеров с диодной накачкой в из-за смены очерёдности полётов экипажей Макдивитта и Аппарат узи сименс инструкция командир дублирующего экипажа Чарльз Конрад потерял шанс лазерная эпиляция александритовый лазер иркутск первым человеком на Луне. Пример условного обозначения марки панели длиной мм, высотой мм, первой несущей способности, из тяжелого бетона, с одним дверным проемом, смещенным к боковой грани панели:. В работе проведение лазерной эпиляции на диодном лазерной аппарат 5 описан автоматический «двухфотонный спектрометр», в котором лазер со2 реабилитация отзывы косметологов импульсов измеряется цифровыми вольтметрами и выводится на печатающее устройство. Производствен- ные мощности позволяют реализовать самые смелые и амби- циозные проекты. Старт «Аполлона» состоялся в среду, 16 июля года, в UTC.

Two Photon Absorbtion and Spectroscopy

А на заседании дис-сертационного совета К Красноярск, пр. Мира, 82, СибГТУ. С диссертацией можно ознакомиться в научной библиотеке Сибирского государственного технологического университета. В , актуально, по следующим причинам: во-первых, данные сплавы являются наиболее дешевыми материалами; во-вторых, метастабильные фазовые диаграммы сплавов ПМ-М характеризуются наличием стехиометрических соединений. Поэтому в настоящее время наряду со средами для продольной записи, серьезное внимание начинает уделяться средам для перпендикулярной магнитной записи информации.

Третьим альтернативным классом сред для перпендикулярной магнитной записи являются высокоанизотропные сплошные с сильным обменным взаимодействием магнитные среды. Перечисленные научно-обоснованные критерии, предъявляемые к записывающим средам для продольной магнитной записи и перпендикулярной магнитной записи требуют поиска новых или модернизации уже имеющихся методов нанесения тонких магнитных пленок и пониманя процессов, обуславливающих формирование различных типов микроструктур магнитных пленок с необходимыми эксплуатационными магнитными характеристиками.

Исследование влияния параметров технологии магнетронного напыления состав и давление рабочего газа и т. Изучение влияния толщины монокристаллических термообработанных пленок эквиатомных сплавов СоР1 на их магнитные характеристики. Установление корреляции между магнитными характеристиками термообработанных монокристаллических пленок CoPt и величиной степени порядка, упорядоченного по типу L10 эквиатомного сплава CoPt.

Обнаружены осцилляции толщинного интерференционного контраста в монокристаллических исходных и термообработанных пленках CosoPtso, свидетельствующие о низком уровне поверхностных шероховатостей. Установлена корреляция между толщиной d монокристаллических термообработанных пленок Co50Pt50, степенью порядка сверхструктуры Ll0 и величиной коэрцитивного поля для пленок, полученных на подложках MgO. В результате усовершенствования высоковакуумной технологической промышленной установки «Оратория-5» разработана методика, позволяющая получать тонкопленочные сплавы на основе Со для магнитной записи.

Проведенная модернизация, заключающаяся в использовании нескольких магнетронов, позволила получать мультислойные структуры с заданными свойствами. Результаты, полученные в работе, могут быть использованы:. Имеются акты об использовании в научном и образовательном процессах модернизированной установки получения тонких пленок и мультислойных структур в высоком вакууме в Красноярском научно-образовательном центре высоких технологий и в лабораториях Института физики СО РАН. Конструктивное решение модернизации высоковакуумной технологической установки «Оратория-5». Экспериментальное выявление корреляции между толщиной с1 монокристаллических пленок Со5оР15о, полученных на подложках степенью порядка сверхструктуры Ы0 и величиной эффективной анизотропии данных термообработанных пленок.

В целом работа докладывалась на научных семинарах кафедры ЮНЕСКО Красноярского технического университета, на семинаре лаборатории магнитодинамики Института физики им. В представленной работе технологическая часть, включающая: разработку модифицированных процессов магнетронного напыления; схемное решение оборудования и его изготовление, выполнена при непосредственном участии автора.

Получение образцов, их паспортизация и последующая термическая обработка выполнены автором. В измерении большей части магнитных характеристик, расшифровке рентгеновских спектров, полученных на исследуемых пленках, в обсуждении результатов и написании статей автор также принимал непосредственное участие. Диссертация состоит из введения, 4 глав с выводами, заключения, списка цитированной литературы из 70 наименований источников. Работа изложена на 98 страницах, включая в себя 33 рисунка и 5 таблиц. В первой главе рассмотрены физические принципы и проблемы, лежащие в основе магнитной записи информации, обсуждаются используемые методы получения магнитных пленок для записи информации с анализом преимуществ и недостатков.

Приводится анализ экспериментальных данных структурных исследований, магнитных характеристик, пленок наноструктурированных ферромагнитных сплавов на основе Ре, Со. В этой же части главы 1 приводятся экспериментальные данные по исследованию пленок сплавов, используемых в качестве сред для перпендикулярной магнитной записи. Особое внимание уделено пленкам на основе СоСг. Анализируется фазовая и магнитная диаграммы сплавов СохР1,. В конце главы формулируются задачи настоящего исследования. Во второй главе рассмотрены технологические аспекты получения пленок сплавов на основе Со для продольной и перпендикулярной магнитной записи. В качестве базовой установки использовалась установка полунепрерывного действия, модернизированная нами для распыления магнитного материала магнетронами постоянного тока.

Рис I Устройство магнетрона постоянного тока 1 мишень, 2 катод, 3 корпус экрана, 4 клемма, 5 изоляционная втулка, 6 магнитная система, 7 герметичные прокладки. Используемая установка 01НИ «Оратория-5» , являющаяся установкой карусельного типа, создана на базе планарного магнетрона с кольцевой зоной эрозии, имеет рабочую камеру, откачную систему и шкаф управления. В общей рабочей камере размещены четыре рабочие позиции: загрузки-разгрузки планетарных подложкодержателей; нагрева подложек; первого и второго распыления. На первой позиции подложкодержатели загружают через откидную крышку и шлюзовую камеру, а затем откачивают ее форвакуумным. Модернизации были подвергнуты шлюзовая камера, в шлюзе смонтирован высокочастотный магнетрон и позиция 3.

Вместо одного стандартного магнетрона, было установлено три магнетрона, которые были специально разработаны для распыления магнитных материалов с высокой проницаемостью заменена магнитная система и конструкция мишени, система охлаждения. Устройство магнетрона постоянного. Магнитная система 6 монтируется на водоохлаждаемом держателе. Катод центрируется с помощью изоляционной втулки 5 в корпусе экрана 3. Вся магнетронная система уплотняется герметизируется с помощью. В ней были установлены створки 4, разделяющие ее рабочий объем на три равные части 5, которые в свою очередь являются рабочими мини камерами для каждого магнетрона 6 в момент совмещения модернизированной камеры над позицией трех магнетронов.

Все эти меры необходимы, чтобы избежать перемешивания напыляемых материалов, в процессе их распыления, а также для избежания взаимозапыления мишеней соседних магнетронов. Дополнительно подвижная камера была оснащена крышкой 2 с тремя прорезями переменной длины 3, размещенными над магнетронами 6. Наличие прорезей в крышке, дает возможность изменять время напыления материала на подложку, путем изменения длины прорези. Пары распыляемого материала, пройдя через открытую прорезь, конденсируются непосредственно на движущуюся над прорезью подложку.

Все детали миникамер были изготовлены из немагнитного материала, чтобы избежать возмущения магнитного поля магнетронов. Наличие такой конструкции позволяет напылять за один рабочий цикл одновременно три различных материала, как магнитных Со, N1, Ре , так и немагнитных Си, И, Сг, А1 [А1-А3]. При этом рабочие параметры магнетронов можно регулировать для каждого в отдельности, независимо друг от друга.

С введением такой модернизации на установке 01НИ, можно проводить напыление пяти различных материалов за один рабочий цикл, включая и ВЧ магнетрон. В третьей главе изложень? Исследуемые образцы пленок сплавов СовоМго! В результате термообработки,. На рис. Поведение кривой 2 указывает на то, что в исходном состоянии пленки исследуемого сплава гетерофазны и состоят как минимум из двух фаз. Это указывает на то, что используемый. Картины микродифракции исходных пленок исследуемого сплава СозоМгоЭьхМ. На фазовой диаграмме рис. Исходное состояние пленок метастабильных сплавов СозоМм ,. Последовательность структурных превращений при термической релаксации указано стрелкой. Для данной серии пленок исследуемых сплавов схема превращений будет выглядеть так[А5,А7]:.

Для данных материалов исходное состояние также гетерофазно, однако представляет собой смесь метастабильных нитридов Co Ni 3N, Co Ni 2N. Полная цепь структурных превращений в данной серии пленок. В четвертой главе Исследована кристаллическая структура и гистерезисные магнитные характеристики монокристаллических пленок Co50Pt Хорошо видны рентгеновские интерференционные осцилляции,.

Заметим, что осцилляции толщинного контраста наблюдались нами и на свежеприготовленных пленках. Дополнительные пики на этой рентгенограмме обусловлены дифракцией рентгеновского излучения на плоскостях подложки MgO. На вставке рис. Регистрируемые здесь отражения , свидетельствуют об образовании в сплаве Co50Pt5o тетрагональной сверхструктуры Ll0 в результате термоотжига. Ось тетрагональности оказалась параллельна нормали пленки п. Полученная зависимость г от толщины пленки представлена на рис. Видно, что здесь наблюдается отражение , с интенсивностью меньшей чем интенсивность отражения Регистрация отражения свидетельствует о возникновении в пленке изучаемого сплава CosoPtso- таких областей Lio, в которых ось тетрагональности уже.

Степень прямоугольности петли гистерезиса S исходных пленок составляла 0. Степень прямоугольности петли гистерезиса S, измеренной в легком направлении, составляла 0. Величина коэрцитивного поля Ht для пленок толщиной превосходящей 16nm, менялась в пределах Юе. Отметим, что петли гистерезиса этих пленок характеризовались. Рис 10 Толщинная зависимость величины коэрцитивного поля Hc d , измеренная в легком направлении намагничивания. Последнее приводит к установлению оси легкого намагничивания параллельно плоскости магнитной пленки и к ее изотропии в плоскости пленки.

Увеличение коэрцитивного поля с ростом толщины ферромагнитного сплава Co50Pt5o отражает фарт роста константы кристаллографической анизотропии К. Данный результат связан с изменением величины степени порядка г] упорядоченной сверхструктуры Ll0 см. Действительно, экспериментально полученные зависимости Hc d рис. При увеличении параметра т] сплава CoPt, величина Нс, следовательно и величина К, возрастает. Зависимость параметра порядка г частично упорядоченной сверхструктуры Ll0 CoPt от толщины пленок также является. Разработан технологический процесс получения пленок нанокристаплического сплава CogoNi2o i-xNx методом магнетронного напыления.

Установлено, что свежеприготовленные пленки сплавов во всем исследуемом концентрационном диапазоне Co8oNi2o i xNx, 0. В монокристаллических пленках эквиатомных сплавов CoPt установлена корреляция между величиной константы эффективной анизотропии и степенью порядка упорядоченной по типу Lio сверхструктуры. Выяснено влияние монокристаллической подложки на формирование структуры и магнитных свойств пленок эквиатомных сплавов СоР1. Показана возможность высокоплотной перпендикулярной магнитной записи на изученных монокристаллических пленках. Ким П.

Ким, И. Турпанов, Л. Ли, А. Бетенькова, Т. Исаева, В. Юшков, Д. Хагтяпин, Е.

Характеристики материалов оптических деталей

Одним из методов ликвидации вертикального рефлюкса при лечении хронических заболеваний вен является радиочастотная облитерация. В году в наиболее распространенной технологии радиочастотной облитерации VNUS Closure произошли существенные конструктивные изменения, влияющие на механизм облитерации целевой вены. В статье проведен обзор истории развития метода радиочастотной облитерации и литературных публикаций по экспериментальным и клиническим исследованиям с применением катетеров для радиочастотной облитерации новой генерации. One of the methods of the vertical reflux elimination at treatment of chronic venous diseases is the radio-frequency obliteration. In , significant constructive changes influencing the mechanism of obliteration of the target vein in the most spreading technology of radio-frequency obliteration VNUS Closure occurred.

Характеристики материалов оптических деталей

В этом году местом проведения выставок станет Выставочный Центр , расположенный по адресу: г. Атырау, проспект Абулхаир хана, Более 80 компаний из 8 стран мира соберутся здесь, чтобы представить свои продукты и инновации, создавая перспективы для расширения своего бизнеса и дальнейшего развития нефтегазовой и строительных отраслей. Экспоненты из Австрии, Азербайджана, Германии, Казахстана, Китая, России, Турции, Финляндии на своих стендах представят последние достижения в сфере нефтегазовой промышленности. Это будет включать в себя широкий ассортимент продукции и услуг, начиная от новейших технологий в области разведки и добычи углеводородов, до решений для транспортировки, переработки нефти и газа, а также развития инфраструктурных проектов. В числе ежегодных участников крупные добывающие нефтегазовые компании, компании по разведке и добычи нефти и газа, нефтесервисные компании, производители нефтегазового оборудования, средств индивидуальной и промышленной защиты, автоматизации и КИП.

Написать комментарий

Ваш электронный адрес не будет опубликован. Поле обязательно для заполнения *

Последние записи

Свяжитесь с нами

ОТПРАВИТЬ СООБЩЕНИЕ